On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching

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Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2013, 113 (19), 〈10.1063/1.4805024〉
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Contributeur : Yamin Leprince <>
Soumis le : jeudi 1 mars 2018 - 16:44:56
Dernière modification le : jeudi 7 février 2019 - 15:51:14

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Citation

Yamin Leprince, K. Nguyen, Philippe Basset, F. Marty, Y. Leprince-Wang, et al.. On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2013, 113 (19), 〈10.1063/1.4805024〉. 〈hal-01721058〉

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