On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching

Yamin Leprince; K. Nguyen; Philippe Basset; F. Marty; Y. Leprince-Wang; Tarik Bourouina

doi:10.1063/1.4805024

On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching

Yamin Leprince ¹ K. Nguyen Philippe Basset ² F. Marty ³ Y. Leprince-Wang ⁴ Tarik Bourouina ¹

1 ESYCOM - Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes

2 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

3 IEF - Institut d'électronique fondamentale

4 LPMDI - Laboratoire de Physique des Matériaux Divisés et des Interfaces

Type de document :

Article dans une revue

Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2013, 113 (19), 〈10.1063/1.4805024〉

Domaine :

Physique [physics] / Matière Condensée [cond-mat] / Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Liste complète des métadonnées

https://hal-upec-upem.archives-ouvertes.fr/hal-01721058
Contributeur : Yamin Leprince <>
Soumis le : jeudi 1 mars 2018 - 16:44:56
Dernière modification le : jeudi 7 février 2019 - 15:51:14

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