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Journal articles
On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching
K. Nguyen
Author
Philippe Basset 1
Author IdHAL : philippe-basset ORCID : https://orcid.org/0000-0002-9790-8247
F. Marty 2
Author
Y. Leprince-Wang 3
Author
Tarik Bourouina 4
Author Employer institution : ESIEE Paris IdHAL : tarik-bourouina
1
IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520 (Laboratoire Central – Cité Scientifique – Avenue Poincaré – CS 60069 – 59652 VILLENEUVE D’ASCQ CEDEX - France)
- Ecole Centrale de Lille (Cité Scientifique - CS 20048 59651 Villeneuve d'Ascq Cedex - France)
- Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN) (France)
- UVHC - Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
- Université de Lille (Lille - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8520 (France)
- UPHF - Université Polytechnique Hauts-de-France (Campus Mont Houy 59313 Valenciennes Cedex 9 - France)
2
IEF - Institut d'électronique fondamentale (bat. 220 Av Georges Clémenceau 91405 ORSAY CEDEX - France)
- UP11 - Université Paris-Sud - Paris 11 (Bâtiment 300 - 91405 Orsay cedex - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR8622 (France)
3
LPMDI - Laboratoire de Physique des Matériaux Divisés et des Interfaces (Université Paris-Est Marne-la-Vallée 5 bd Descartes 77454 Marne-la-Vallée cedex 2 - France)
- UPEM - Université Paris-Est Marne-la-Vallée (5 boulevard Descartes - Champs-sur-Marne - 77454 Marne-la-Vallée Cedex 2 - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : FRE3300 (France)
4
ESYCOM - Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes (Université de Paris-Est - Marne-la-Vallée, Cité Descartes, Bâtiment Copernic, 5 bd Descartes, 77454 Marne-la-Vallée Cedex 2 - France)
- UPEM - Université Paris-Est Marne-la-Vallée : EA2552 (5 boulevard Descartes - Champs-sur-Marne - 77454 Marne-la-Vallée Cedex 2 - France)
- ESIEE Paris (2 boulevard Blaise Pascal Cité Descartes BP 99 93162 Noisy-le-Grand Cedex - France)
- CNAM - Conservatoire National des Arts et Métiers [CNAM] : EA2552 (France)
Document type :
Journal articles
Complete list of metadata
https://hal-upec-upem.archives-ouvertes.fr/hal-01721058
Contributor : Yamin Leprince <>
Submitted on : Thursday, March 1, 2018 - 4:44:56 PM
Last modification on : Wednesday, April 7, 2021 - 10:32:09 AM
Contributor : Yamin Leprince <>
Submitted on : Thursday, March 1, 2018 - 4:44:56 PM
Last modification on : Wednesday, April 7, 2021 - 10:32:09 AM
Identifiers
- HAL Id : hal-01721058, version 1
- DOI : 10.1063/1.4805024
Collections
UPEC-UPEM | CNRS | CNAM | ESYCOM | UNIV-LILLE | ESIEE-PARIS | UNIV-HESAM | UNIV-VALENCIENNES | IEMN
Citation
K. Nguyen, Philippe Basset, F. Marty, Y. Leprince-Wang, Tarik Bourouina. On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching. Journal of Applied Physics, American Institute of Physics, 2013, 113 (19), ⟨10.1063/1.4805024⟩. ⟨hal-01721058⟩
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